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  光學元件加工的表面質量是限制大功率激光裝置負載能力提高的主要因素之一，阻礙了慣性約束核聚變的發展。超光滑表面拋光技術是光學元件加工中應用鐸的表面處理技術。目前，有許多成熟的拋光方法，其中化學機械拋光(CMP)應用多，是一種復合加工方法，是能提供光滑的拋光技術。影響拋光效果的因素有很多。鈰基拋光液作為拋光系統的重要組成部分，其性能將直接決定拋光元件的表面質量。鈰基拋光液的性能包括磨料顆粒的粒度分布、懸浮穩定性、分散性、硬度和各種添加劑的協同作用。拋光液中的添加劑對拋光液的性能有很大的影響。因此，拋光液的部署尤為重要，是化學機械拋光領域的熱點之一。