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  氧化鑭鈰稀土拋光液的關鍵技術：公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉，通過將高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉液體化，按照相應的比例和參數，物理合成適量的稀土元素，通過中和、壓縮、過濾、分級等工藝，使產品滿足不同拋光產品和材質的要求。

  其產品性能：根據不同磨料和拋光產品，采用專用加工和配方，使產品表面的光潔度和光滑度達到技術要求，避免了拋光過程中的劃傷和缺陷。

  產品特點：穩定性高、分散性好、拋光速度快、磨削力強、無拋光缺陷、可循環使用。

  應用領域：該系列產品主要用于集成電路、半導體硅片、電子芯片等產品的拋光。